半導體工業的電子芯片是我國的大宗進口商品，我國的芯片行業發展比較緩慢，近期國家的政策也傾向于大力發展自主性的半導體芯片。在半導體行業，超純水不同于其他行業的超純水的要求，有極其嚴苛的水質要求。
超純水（Ultrapure water）又稱UP水，是指電阻率達到18 MΩ*cm（25℃）的水。這種水中除了水分子外，幾乎沒有什么雜質，更沒有細菌、病毒、含氯二噁英等有機物，當然也沒有人體所需的礦物質微量元素，也就是幾乎去除氧和氫以外所有原子的水。可以用于超純材料（半導體原件材料、納米精細陶瓷材料等）應用蒸餾、去離子化、反滲透技術或其它適當的超臨界精細技術的制備過程
超純水處理:既將水中的導電介質幾乎完全去除，又將水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度的水。電阻率大于18MΩ*cm，或接近18.3MΩ*cm極限值(25℃)。
超純水處理，是一般工藝很難達到的程度，采用預處理、反滲透技術、超純化處理以及后級處理四大步驟，多級過濾、高性能離子交換單元、超濾過濾器、紫外燈、除TOC裝置等多種處理方法，電阻率方可達18.25MΩ*cm(25℃)。
在半導體產品制造過程中，很多電子元器件生產過程中需要大量超純水，且對水質要求特別嚴苛。由于生產設備的精密性和生產工藝的復雜性，對其配套設施提出了很高的要求，尤其對作為半導體行業血脈的超純水系統更是高之又高。半導體行業超純水制造工藝可以概述為4個部分，分別為預處理部分、RO部分、電去離子部分和拋光混床部分；在有些半導體廠中， 也有用“陰床+陽床”代替電去離子裝置的，主要根據原水水質和產水水質對弱電解質的要求而定。
產品優勢
1.避免傳統離子再生耗費的大量酸堿，對環境更友好；
2.克服傳統離子設備再生周期相對較長；
3.超濾反洗排水、一級RO濃水排水和CEDI濃水排水及其回收利用措施，利于節能減排；
4.節約水資源及半導體制造單位的運行成本。
產品應用
預處理部分
1.多介質過濾器+活性炭過濾器;
2.粗過濾器+超濾裝置。
反滲透部分
反滲透膜
電去離子部分
EDI模塊和 CEDI模塊。
拋光混床
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技術支持：
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