在半導體工業生產中，幾乎各個工序都會用到超純氣體， 器件的質量與超純氣體的純凈度密切相關。
超純氣體指純度高于99.99%的氣體,是一種高純化學試劑。為適應一些科學研究和尖端技術的特殊需要而制備。一些對氣體要求特別純凈的部門，需要超純氣體的純度高達99.9999%以上,每升氣體中粒度大于0.5μm的塵粒數應小于三個。
超純氣體的制備大多是從工業氣體加以純化，有吸附法、吸收法、薄膜擴散法、電解法、生化法、輻射法、光解法、低溫精餾法、催化法等。例如超純氫、氮、氦、氬，先通過空氣分離提取較純氣體，再經低溫吸附得到超純氣體;粗氬也可以從合成氨弛放氣中提取;粗氪、氙從核裂變氣中提取，再經純化而得超純氣體。
半導體工業用的超純氣體有氫、氧、氮、氬、氦、氨、二氧化銨、四氧化碳各類氣體氫化物及二元或三元以上的混合氣等，它們大部分 是從空氣、天然氣、石油化工和合成氨廠的殘余氣體中提取后進一步精制得到，根據原料氣來源情況、雜質組份含量、純度要求來選擇相應的制備方法。集成電路發 展到兆位級后，對超凈提出了更嚴格要求，在超純氣體或電子氣體供氣系統中，為了脫除由于振動或氣流沖擊所造成的脫落粒子，在使用氣前須安裝過濾器。
半導體元件因其高集成化，制作芯片上的電子電路的最小加工線寬度變得更微細，16k位電路線寬、線路間距為4~7微米，而256k位電路為0.8~1.5微 米；這種微細的加工允許的微粒子的最小粒徑是加工尺寸的1/5~1/10，故對于64k位隨機存取記憶，存在0.3微米的粒子會成為問題，對于 256k~1M位隨機存取記憶，某一段存在0.1微米的粒子就會成為問題。在半導體工業生產中, 幾乎各道工序都用到超純氣體, 元件的質量與超純氣體的純凈度密切相關。
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